2008年4月13日 星期日
撼動世界的微觀神話
Intel（英特爾）宣佈一項重大的基礎電晶體設計突破，以兩種全新材料製作 45 奈米（nm）電晶體絕緣層（insulating wall）和開關閘極（switching gate）。下一代 Intel Core 2 Duo、Intel Core 2 Quad和Xeon多核心處理器系列，將使用上億個這種超小型電晶體（或開關）。Intel亦表示，該公司正在試產及測試五款初期版本產品，也是15款45奈米處理器產品計畫中的第一批。
新型電晶體將讓Intel的個人電腦、筆記型電腦和伺服器處理器執行速度持續突破紀錄，並減少電晶體漏電（electrical leakage），漏電會阻礙晶片和個人電腦的設計、大小、耗電量、雜訊與成本的開發。而Intel此項宣佈也將確保摩爾定律（Moore’s Law）將再延續到未來十年。
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