2008年4月30日 星期三

達梭系統展示PLM2.0新世代的V6平台


   全球3D與產品生命週期管理(PLM)解決方案廠商達梭系統(Dassault Systmes)，於年度「ENOVIA–新世代PLM協同作業」研討會中展示PLM2.0新世代的V6平台。現場聚集了一百五十多位橫跨多項產業先進共襄盛舉，其中包括工業設備、半導體及高科技等產業。
   達梭系統ENOVIA亞洲副總裁暨總經理Andy Kalambi於會中介紹達梭系統的V6策略如何體現PLM2.0。PLM2.0主要建立一個線上的3D環境，以支援創新產品。創作者、協同研發者以及消費者，皆可透過此全新概念交流構想並建立智慧財產，縮短產品上市時間。達梭系統全球半導體產業策略解決方案總監Rick Stanton以「PLM 2.0：V6-新世代的PLM協同合作」以及「高科技及半導體公司的獲利創新」為題，分享達梭如何協助客戶提升生產效益。

關鍵字 : PLM,3D,達梭系統,Rick Stanton,Andy Kalambi,Bernard Parrenin,科學與工程軟體