2008年7月16日 星期三
KLA-Tencor推出可計算黃光雙次成像的模擬軟體
KLA-Tencor公司推出黃光電腦模擬軟體PROLITH 11。能提供使用者評估目前雙次成像技術的工具，協助使用者在設計、材料與製程開發方面符合成本效益，探索光蝕挑戰的替代解決方案。這款新型黃光電腦模擬軟體，同時支援單次成像和浸潤式曝光技術。
KLA-Tencor製程控制資訊部副總裁暨總經理Ed Charrier指出：「由於光蝕複雜度和實驗成本的大幅上揚，電路設計師與晶片製造商必須面對雙次成像光蝕（DPL）帶來的挑戰。要控制這些成本，計算光蝕已成為一項必備的工具。在黃光電腦模擬軟體中，PROLITH 11具備獨具一格的優秀能力，讓工程師能夠探索廣泛領域的設計、材料或製程條件，不必耗費晶圓廠的資源而解決特定問題。」
關鍵字 : 製程開發,模擬軟體,KLA-Tencor,Ed Charrier,科學與工程軟體
