Dow Corning新一代光阻劑聚焦次世代微影製程

Dow Corning新一代光阻劑聚焦次世代微影製程(摘自易立達高科技網)

   全球材料、應用技術及服務綜合供應商Dow Corning Electronics的矽晶片微影解決方案事業部今日宣佈正式開始供應Dow Corning XR-1541電子束光阻劑，此一產品是專為實現次世代、直寫微影製程技術開發所設計。這一新型先進的旋佈光阻劑產品系列是以電子束（electron beam）取代傳統光源產生微影圖案，可提供圖形定義小至6奈米的無光罩微影技術能力。
   可用於各種高純度、半導體等級配方的XR-1541電子束光阻劑，是由甲基異丁基酮（methylisobutylketone；MIBK）帶性溶劑中的含氫矽酸鹽類（hydrogen silsesquioxane；HSQ）樹脂所構成。這些負光阻劑可在標準旋佈沉積塗佈設備上使用，在單一塗佈中形成30到180奈米等不同厚度的薄膜，而客製化的配方還可應客戶需求生產更薄或更厚的薄膜。此外，新型光阻劑還提供絕佳的蝕刻阻抗以及下降至3.3奈米的邊線定義，可在標準水基顯影劑中顯影。

關鍵字 : HSQ,MIBK,Dow Corning,陶氏化學,康寧,半導體製造與測試